In
49

铟 · Indium

铟是一种银白色、质地极软的稀有金属,以其特征性的靛蓝色光谱线而得名。铟是现代电子工业的关键材料——氧化铟锡(ITO)是制造液晶显示器、触摸屏和太阳能电池透明导电膜的核心材料。铟具有极低的熔点(156.6°C)、优异的延展性和独特的"哭声"(弯折时发出的声音)。作为"技术金属"的代表,铟在半导体、焊料和低熔点合金领域有不可替代的应用。

49
原子序数
114.82
原子量
156.6°C
熔点
2072°C
沸点
7.31
密度 g/cm³
IIIA
+1/+3
常见氧化态

一、基本信息

元素概述 铟(Indium)是第五周期IIIA族(第13族)主族金属元素,原子序数49,元素符号In。它是一种银白色的软质金属,具有极佳的延展性——可以被压成极薄的箔片。铟最显著的特征是其特有的"铟哭声"——当弯折铟金属时会发出独特的吱吱声(由晶格滑移产生)。铟因发现时显示的靛蓝色光谱线而得名(拉丁语indicum,意为"靛蓝")。铟是现代显示技术和半导体工业的关键材料,被列为战略性关键矿产。

💎 靛蓝色光谱之星

铟的发现源于其独特的靛蓝色光谱线(波长451.1nm)。1863年,德国化学家Ferdinand Reich和Hieronymus Theodor Richter在分析闪锌矿样品时,通过光谱分析发现了这条前所未见的明亮蓝色谱线,由此确认了一种新元素的存在。这条特征谱线至今仍是铟的重要鉴定特征。

1.1 基本参数

参数数值参数数值
元素符号In原子序数49
相对原子质量114.818CAS号7440-74-6
元素周期第5周期元素族IIIA族(第13族)
元素分区p区晶体结构体心正方晶系
外观银白色,有光泽莫氏硬度1.2
元素分类主族金属(贫金属)发现年份1863年

1.2 电子构型

[Kr] 4d10 5s2 5p1

铟原子有49个电子,分布在5个电子层中。价电子为5s和5p轨道上的3个电子,这决定了铟的主要氧化态为+3。由于5s²电子对的惰性效应,+1氧化态在某些化合物中也较稳定。铟位于硼族元素(IIIA族)中,介于镓(Ga)和铊(Tl)之间。

1.3 原子参数

参数数值
原子半径(共价)142 pm
原子半径(计算值)156 pm
范德华半径193 pm
电负性(鲍林标度)1.78
第一电离能558.3 kJ/mol
第二电离能1820.7 kJ/mol
第三电离能2704 kJ/mol
电子亲和能28.9 kJ/mol

1.4 元素在周期表中的位置

周期相邻元素
第5周期IIIA族(第13族)p区左:镉(Cd) 右:锡(Sn)
同族元素: 硼(B)、铝(Al)、镓(Ga)、铟(In)、铊(Tl)、鉨(Nh)

1.5 与同族元素对比

性质铝 Al镓 Ga铟 In铊 Tl
原子序数13314981
原子量26.9869.72114.82204.38
密度(g/cm³)2.705.917.3111.85
熔点(°C)660.329.76156.6304
电负性1.611.811.781.62
主要氧化态+3+3+3+1, +3
毒性剧毒

二、物理性质

最显著特征 铟是一种银白色、极软的金属,硬度仅为1.2(莫氏),可用指甲刻划。铟具有优异的延展性,可以被压成极薄的箔片(厚度可达0.001mm)。铟最独特的物理特征是"铟哭声"——当快速弯折铟金属时,由于晶格滑移会发出类似锡的"哭声"。铟的熔点较低(156.6°C),可在沸水中保持固态但接近熔点。铟能润湿玻璃,是优良的真空密封材料。

2.1 热学性质

性质数值条件/备注
熔点156.6°C (429.75 K)
沸点2072°C (2345 K)
熔化热3.281 kJ/mol
汽化热231.8 kJ/mol
比热容26.74 J/(mol·K)25°C
热导率81.8 W/(m·K)300 K
线膨胀系数32.1×10⁻⁶ /K25°C

⭐ "铟哭声"现象

当快速弯折铟金属棒时,会发出独特的"吱吱"声,这被称为"铟哭声"(Indium cry)或"锡哭声"(类似锡的声音)。这种声音是由于金属晶体在机械变形时发生晶格位错滑移和孪晶形成所产生的。这种现象也出现在锡和其他一些金属中。铟的体心正方晶格结构使这种效应尤为明显。

2.2 力学性质

性质数值
密度(固态)7.31 g/cm³ (20°C)
密度(液态)7.02 g/cm³ (熔点)
莫氏硬度1.2
布氏硬度8.83 MPa
杨氏模量11 GPa
剪切模量3.7 GPa
体积模量41 GPa
泊松比0.45
特性极软,延展性极佳

⭐ 玻璃润湿性

铟具有独特的玻璃润湿能力——液态铟可以润湿并附着在玻璃表面,这在金属中非常罕见(大多数金属不润湿玻璃)。这一特性使铟成为理想的真空密封材料,广泛用于真空设备、低温恒温器和光学仪器的密封。铟垫片可以在玻璃与金属之间形成气密性密封。

2.3 电学性质

性质数值条件
电阻率8.37×10⁻⁸ Ω·m20°C
电导率1.19×10⁷ S/m
超导临界温度3.41 K常压
超导临界磁场28 mT0 K
ℹ️ 超导性

铟是一种I型超导体,临界温度为3.41 K (-269.74°C)。虽然这个温度很低,但铟的超导性在低温物理研究中有重要应用。铟焊料常用于低温设备中,因为它在低温下保持良好的机械性能且可焊接。

2.4 磁学性质

性质数值
磁化率(χm)-1.03×10⁻⁵ (体积)
磁性类型抗磁性(逆磁性)

2.5 光学性质

性质数值/描述
颜色银白色
光泽强金属光泽
特征光谱线靛蓝色 (451.1 nm)
反射率约69% (可见光)

2.6 晶体结构

体心正方晶系
空间群: I4/mmm
晶格常数 a=3.253Å
c=4.946Å, c/a=1.52
配位数
4+8
变形的体心立方
沿c轴拉伸
特殊性质
晶格滑移产生"哭声"
低温冷加工变形
极佳延展性

2.7 与常见金属对比

性质铟 In锡 Sn镓 Ga
密度(g/cm³)7.317.315.91
熔点(°C)156.6231.929.76
热导率(W/m·K)81.866.840.6
硬度(莫氏)1.21.51.5
毒性
润湿玻璃

三、化学性质

化学活性特点 铟在常温干燥空气中稳定,但在潮湿空气中会缓慢氧化形成薄层氧化膜。铟的化学活性中等,位于金属活动性顺序中氢的前面(与镉相近),可置换出稀酸中的氢。铟可溶于盐酸、硫酸和硝酸,不溶于碱溶液。铟的主要氧化态为+3,+1氧化态也存在于某些化合物中。In⁺不稳定,容易歧化为In³⁺和金属铟。

3.1 与氧气的反应

铟在常温干燥空气中稳定。在潮湿空气中缓慢氧化形成薄层氧化膜。加热至熔点以上在空气中燃烧,生成淡黄色的三氧化二铟。

4In + 3O₂ →(燃烧) 2In₂O₃ (淡黄色粉末)
2In + 3/2O₂ →(缓慢氧化) In₂O₃

3.2 与卤素的反应

铟可与卤素直接化合,生成三卤化铟,活泼性:F₂ > Cl₂ > Br₂ > I₂。

2In + 3F₂ → 2InF₃ (白色晶体)
2In + 3Cl₂ → 2InCl₃ (白色晶体,易潮解)
2In + 3Br₂ → 2InBr₃ (红色晶体)
2In + 3I₂ →(加热) 2InI₃ (红色晶体)

一卤化铟(InX)也可存在,但不稳定,易歧化:

3InCl → InCl₃ + 2In (歧化反应)

3.3 与酸的反应

铟位于金属活动性顺序中氢的前面,可与稀酸反应放出氢气。

与盐酸:

2In + 6HCl(稀) → 2InCl₃ + 3H₂↑
In + 3HCl(浓) → InCl₃ + 3/2H₂↑

与硫酸:

2In + 3H₂SO₄(稀) → In₂(SO₄)₃ + 3H₂↑
2In + 6H₂SO₄(浓热) → In₂(SO₄)₃ + 3SO₂↑ + 6H₂O

与硝酸:

In + 4HNO₃(稀) → In(NO₃)₃ + NO↑ + 2H₂O
In + 6HNO₃(浓) → In(NO₃)₃ + 3NO₂↑ + 3H₂O

3.4 与碱的反应

金属铟不与碱溶液反应(与铝不同),显示较弱的两性。

In + NaOH(溶液) → 不反应
In + NaOH(熔融) →(高温) NaInO₂ + 3/2H₂↑

氢氧化铟是两性氢氧化物,但偏碱性:

In(OH)₃ + 3HCl → InCl₃ + 3H₂O
In(OH)₃ + NaOH(浓) → Na[In(OH)₄] (需浓碱)

3.5 与非金属的反应

与硫:

2In + 3S →(加热) In₂S₃ (黄色/橙红色)

与硒、碲:

2In + 3Se →(高温) In₂Se₃ (黑色,半导体)
2In + 3Te →(高温) In₂Te₃ (灰黑色,半导体)

与磷、砷、锑:

In + P →(高温) InP (灰色,重要半导体)
In + As →(高温) InAs (灰色,半导体)
In + Sb →(高温) InSb (灰色,红外探测器)

与氮气:

2In + N₂ →(高温/等离子) 2InN (黑色,半导体)

3.6 与水的反应

In + H₂O → 不反应 (常温或沸水)
2In + 3H₂O →(红热/水蒸气) In₂O₃ + 3H₂↑

3.7 与氢气的反应

铟不与氢气直接化合,不形成稳定的氢化物。

In + H₂ → 不反应

3.8 与金属的反应

铟可与多种金属形成合金或金属间化合物。

In + Ga → In-Ga合金 (可形成液态合金)
In + Sn → In-Sn合金 (低熔点焊料)
3In + Au →(高温) AuIn₃

3.9 氧化还原性

In³⁺/In电对:

E° = -0.338 V (酸性溶液),铟是较活泼的金属

In⁺/In电对:

E° = -0.126 V

In³⁺/In⁺电对:

E° = -0.444 V,In⁺不稳定,易歧化

3.10 歧化反应

一价铟不稳定,容易发生歧化反应:

3In⁺ → In³⁺ + 2In (歧化)
3InCl → InCl₃ + 2In
3In₂O → In₂O₃ + 4In

四、同位素

同位素概述 铟有两种天然同位素:¹¹³In(丰度4.29%)和¹¹⁵In(丰度95.71%)。有趣的是,丰度较高的¹¹⁵In实际上具有放射性,会发生β⁻衰变,但半衰期极长(4.41×10¹⁴年),是宇宙年龄的3万多倍,因此在实际应用中可视为稳定。铟的放射性同位素¹¹¹In在核医学成像中有重要应用,是常用的SPECT显像剂。

4.1 天然同位素

¹¹³In
丰度: 4.29%
稳定同位素
核自旋: 9/2⁺
¹¹⁵In
丰度: 95.71%
T₁/₂ = 4.41×10¹⁴年
β⁻衰变→¹¹⁵Sn

¹¹⁵In的半衰期极长,是已知放射性同位素中半衰期最长的之一。由于其半衰期远超宇宙年龄,在所有实际应用中都可视为稳定同位素。

4.2 人造放射性同位素

同位素半衰期衰变方式应用
¹⁰⁹In4.2小时EC/β⁺科研
¹¹⁰In4.9小时EC/β⁺科研
¹¹¹In2.8天EC核医学成像(SPECT)
¹¹²In14.4分钟EC/β⁺科研
¹¹⁴In71.9秒β⁻科研
¹¹⁴ᵐIn49.5天IT/ECγ射线源
¹¹⁶In14.1秒β⁻科研
¹¹⁶ᵐIn54.3分钟β⁻科研

🏥 ¹¹¹In核医学应用

¹¹¹In是重要的核医学显像剂,其半衰期(2.8天)适中,发射的γ射线能量(171 keV和245 keV)适合SPECT成像。¹¹¹In标记的化合物主要用于:

白细胞标记:¹¹¹In-氧喹啉标记白细胞,用于感染和炎症灶定位

血小板标记:用于血栓检测

肿瘤显像:¹¹¹In-奥曲肽用于神经内分泌肿瘤成像

抗体标记:用于放射免疫显像

4.3 衰变反应

¹¹⁵In →(β⁻, 4.41×10¹⁴年) ¹¹⁵Sn + e⁻ + ν̄ₑ
¹¹¹In →(EC, 2.8天) ¹¹¹Cd + γ (171 keV, 245 keV)
¹¹⁴ᵐIn →(IT, 49.5天) ¹¹⁴In + γ

4.4 核性质

同位素核自旋核磁矩(μN)应用
¹¹³In9/2⁺+5.529NMR研究
¹¹⁵In9/2⁺+5.541NMR研究

铟的两种天然同位素都具有较大的核自旋(I=9/2)和核磁矩,可用于核磁共振(NMR)研究,特别是在半导体材料和化合物的结构分析中。

五、发现历史

1863年

德国化学家Ferdinand Reich和Hieronymus Theodor Richter在弗莱贝格矿业学院(Freiberg School of Mines)研究闪锌矿(ZnS)样品时,试图寻找铊元素。Reich通过光谱分析发现了一条前所未见的明亮靛蓝色谱线。由于Reich是色盲,他的助手Richter确认了这条蓝色谱线,证实发现了新元素。

1863年

Richter成功分离出少量金属铟,以其特征性的靛蓝色光谱线命名为"Indium"(源自拉丁语indicum,意为"靛蓝")。这是继铯和铷之后,第三个通过光谱分析发现的元素。

1867年

Richter在巴黎世界博览会上展示了纯度约99%的金属铟样品(约0.5kg),引起科学界关注。

1924年

铟的低熔点合金开始应用于牙科。铟的工业应用逐渐展开。

1934年

发现铟可以润湿玻璃的独特性质,开始应用于真空密封。

1950年代

铟在晶体管和半导体工业中开始应用。磷化铟(InP)、砷化铟(InAs)、锑化铟(InSb)等III-V族半导体被开发。

1970年代

氧化铟锡(ITO)透明导电膜技术发展,铟成为平板显示器产业的关键材料。

1990年代

液晶显示器(LCD)大规模商业化,ITO需求激增,铟价格上涨。铟被列为战略性稀有金属。

2000年代至今

铟在触摸屏、太阳能电池(CIGS)、LED等领域的应用持续扩大。铟资源回收和替代材料研究成为热点。铟被多国列为关键矿产。

名称由来:

"Indium"源自拉丁语"indicum",意为"靛蓝",指的是铟在火焰光谱中呈现的明亮靛蓝色特征谱线(波长451.1 nm)。这条谱线是Reich和Richter发现铟的关键证据。中文"铟"是音译名,同时带有金字旁表示其金属属性。

ℹ️ 发现者趣闻

Ferdinand Reich是色盲,无法亲自确认他在光谱中发现的蓝色谱线。他不得不依靠助手Hieronymus Theodor Richter来验证这一发现。后来,Richter不仅确认了新元素的存在,还成功分离出金属铟,因此两人共同被认定为铟的发现者。这是科学史上合作发现新元素的典范案例。

六、自然分布

地壳丰度 铟在地壳中的丰度约为0.05-0.1 ppm(百万分之0.05-0.1),在所有元素中排名约第61位,属于稀有金属。铟在自然界中不以自然铟(单质)形式存在,而是分散在锌、铅、铜、锡等矿物中。铟主要作为锌矿(特别是闪锌矿)冶炼的副产品回收。全球铟资源高度集中,中国拥有最大的铟储量和产量。

6.1 矿物来源

铟不形成独立的矿物,而是以杂质形式存在于其他矿物中:

ZnS
闪锌矿 (Sphalerite)

最重要的铟来源,含In 0.001-0.1%不等

CuFeS₂
黄铜矿 (Chalcopyrite)

铜矿冶炼副产品,含微量铟

PbS
方铅矿 (Galena)

铅矿冶炼副产品,含微量铟

SnO₂
锡石 (Cassiterite)

锡矿冶炼副产品

CuInS₂
黄铜铟矿 (Roquesite)

稀有矿物,含In最高可达~48%

6.2 主要来源

来源占全球供应比例备注
锌矿冶炼副产品~95%闪锌矿是主要来源
铅矿冶炼副产品~2%
铜矿冶炼副产品~2%阳极泥中回收
锡矿冶炼副产品~1%
废料回收逐年增加ITO靶材回收

6.3 全球储量分布

全球铟储量估计约1.6万吨(金属量),主要分布在以下地区:

中国
~48%
秘鲁
~7%
澳大利亚
~6%
俄罗斯
~5%
其他
~34%

6.4 全球产量分布

全球铟年产量约800-900吨,生产高度集中:

中国
~56%
韩国
~15%
日本
~10%
加拿大
~6%
比利时
~5%
其他
~8%

6.5 主要产区与企业

云南/广西
中国
锌冶炼副产品
全球最大产区
Korea Zinc
韩国
锌冶炼副产品
高纯铟生产
同和矿业
日本
废料回收
高纯铟加工
Teck Resources
加拿大
Trail冶炼厂
锌矿副产品
Umicore
比利时
废料回收
高纯铟生产
⚠️ 供应风险

铟作为锌冶炼的副产品,其供应量受锌市场影响较大,难以根据铟的需求灵活调整产量。同时,铟资源和生产高度集中于少数国家(特别是中国),地缘政治风险较高。铟已被美国、欧盟、日本等列为关键矿产(Critical Mineral)。铟的回收率目前还不高,提高ITO废料回收是缓解供应压力的重要途径。

七、提取与冶炼

7.1 从锌冶炼残渣提取

铟主要从锌电解精炼的副产品中回收,包括浸出渣、铁矾渣和阳极泥。

酸浸出法:

In₂O₃(渣中) + 6HCl → 2InCl₃ + 3H₂O
In₂O₃(渣中) + 3H₂SO₄ → In₂(SO₄)₃ + 3H₂O

置换法(海绵铟):

In³⁺ + 3/2Zn → In↓ + 3/2Zn²⁺
InCl₃ + 3/2Zn → In↓ + 3/2ZnCl₂
In₂(SO₄)₃ + 3Al → 2In↓ + Al₂(SO₄)₃

7.2 电解精炼

阳极: In - 3e⁻ → In³⁺
阴极: In³⁺ + 3e⁻ → In

电解液通常为InCl₃-HCl或In₂(SO₄)₃-H₂SO₄溶液,可获得99.99%以上纯度的铟。

7.3 溶剂萃取法

In³⁺(水相) + 3HR(有机相) → InR₃(有机相) + 3H⁺(水相)

常用萃取剂包括D2EHPA(二(2-乙基己基)磷酸)、TBP(磷酸三丁酯)等。萃取后用酸反萃取。

InR₃(有机相) + 3H⁺(水相) → In³⁺(水相) + 3HR(有机相)

7.4 高纯铟制备

区域熔炼法:

In(粗) →(区域熔炼, 多次) In(高纯, 5N-7N级)

利用杂质在固液相中分配系数的差异,通过多次区域熔炼可获得99.99999%(7N)纯度的铟。

真空蒸馏法:

In(粗) →(真空蒸馏) In(纯) + 挥发杂质

7.5 ITO废料回收

从ITO靶材和溅射废料中回收铟是重要的二次资源来源:

ITO废料 + HCl → InCl₃ + SnCl₄ + H₂O
InCl₃ + 3NaOH → In(OH)₃↓ + 3NaCl
2In(OH)₃ →(煅烧) In₂O₃ + 3H₂O
In₂O₃ + 3H₂ →(高温) 2In + 3H₂O

7.6 铟化合物制备

三氧化二铟:

2In(NO₃)₃ →(煅烧, >500°C) In₂O₃ + 6NO₂↑ + 3/2O₂↑
2In(OH)₃ →(脱水, 200°C) In₂O₃ + 3H₂O

三氯化铟:

2In + 3Cl₂ →(加热) 2InCl₃
In₂O₃ + 6HCl → 2InCl₃ + 3H₂O

氧化铟锡(ITO):

In₂O₃ + SnO₂ →(混合烧结, 1400-1600°C) In₂O₃·SnO₂ (ITO)

典型的ITO成分为90% In₂O₃ + 10% SnO₂(质量比)。

八、重要化合物

8.1 氧化物

三氧化二铟 In₂O₃
分子量277.64
外观淡黄色粉末
熔点1910°C
密度7.18 g/cm³
晶体结构立方晶系(方铁锰矿型)
溶解度不溶于水,溶于酸

In₂O₃是最重要的铟化合物,是ITO的主要成分。纯In₂O₃是n型半导体,禁带宽度约3.6 eV。

In₂O₃ + 6HCl → 2InCl₃ + 3H₂O
In₂O₃ + 6HNO₃ → 2In(NO₃)₃ + 3H₂O
In₂O₃ + 3H₂ →(>500°C) 2In + 3H₂O
In₂O₃ + 3C →(高温) 2In + 3CO↑
一氧化铟 In₂O
分子量245.64
外观黑色粉末
性质不稳定,易歧化

In₂O是一价铟的氧化物,不稳定,在加热时歧化。

3In₂O →(加热) In₂O₃ + 4In

8.2 卤化物

化合物外观熔点沸点性质
InF₃白色晶体1172°C微溶于水
InCl₃白色晶体586°C800°C(升华)易潮解,溶于水
InBr₃红色晶体436°C溶于水
InI₃黄色晶体210°C溶于水
InCl红色晶体225°C不稳定,歧化

卤化物性质:

InCl₃ + 3H₂O → In(OH)₃↓ + 3HCl (水解,需酸性环境稳定)
InCl₃ + 3NaOH → In(OH)₃↓ + 3NaCl
3InCl → InCl₃ + 2In (歧化)

8.3 硫化物和硒化物

In₂S₃ 三硫化二铟

黄色至橙红色粉末,密度4.45 g/cm³,熔点1050°C。是n型半导体,禁带宽度约2.0 eV,用于光电器件和太阳能电池缓冲层。

2In + 3S →(加热) In₂S₃
2In³⁺ + 3S²⁻ → In₂S₃↓ (黄色沉淀)
In₂Se₃ 三硒化二铟

黑色粉末,半导体材料,用于相变存储器和光电器件研究。

8.4 盐类

硝酸铟 In(NO₃)₃·xH₂O

无色至白色晶体,易潮解,溶于水。是制备其他铟化合物的重要原料。

In + 4HNO₃(稀) → In(NO₃)₃ + NO↑ + 2H₂O
In₂O₃ + 6HNO₃ → 2In(NO₃)₃ + 3H₂O
2In(NO₃)₃ →(煅烧) In₂O₃ + 6NO₂↑ + 3/2O₂↑
硫酸铟 In₂(SO₄)₃

白色粉末,溶于水,用于铟的电解精炼和化学分析。

In₂O₃ + 3H₂SO₄ → In₂(SO₄)₃ + 3H₂O

8.5 III-V族半导体化合物

🔬 铟基半导体材料

化合物禁带宽度(eV)应用
InP (磷化铟)1.35高速电子器件、光纤通信激光器
InAs (砷化铟)0.36红外探测器、霍尔器件
InSb (锑化铟)0.17红外探测器、热成像
InN (氮化铟)0.7LED、太阳能电池
InGaAs可调光探测器、光纤通信
InGaN可调蓝/绿光LED、激光二极管
InGaP1.86高效太阳能电池、HBT

8.6 有机铟化合物

化合物结构/分子式应用
三甲基铟In(CH₃)₃MOCVD前驱体
三乙基铟In(C₂H₅)₃MOCVD前驱体
三异丙基铟In(i-C₃H₇)₃MOCVD前驱体

有机铟化合物是金属有机化学气相沉积(MOCVD)制备铟基半导体薄膜的关键前驱体。它们具有高挥发性和热分解活性。

In(CH₃)₃ + PH₃ →(MOCVD, 高温) InP + 3CH₄↑
In(CH₃)₃ + AsH₃ →(MOCVD, 高温) InAs + 3CH₄↑

九、ITO透明导电膜

📱 现代显示技术的基石

氧化铟锡(ITO, Indium Tin Oxide)是铟最重要的应用领域,消耗了全球约70%的铟产量。ITO是一种透明导电氧化物(TCO),具有优异的光学透明性(可见光透过率>85%)和电学导电性(电阻率~10⁻⁴ Ω·cm)的独特组合。ITO薄膜是液晶显示器(LCD)、触摸屏、OLED、太阳能电池等现代电子设备不可或缺的材料。

9.1 ITO的组成与结构

参数数值/描述
化学组成90% In₂O₃ + 10% SnO₂ (质量比,典型)
晶体结构立方方铁锰矿型(In₂O₃结构)
导电类型n型简并半导体
禁带宽度~3.7 eV
载流子浓度~10²⁰-10²¹ cm⁻³
迁移率20-40 cm²/(V·s)

9.2 ITO的性能

性能典型值备注
可见光透过率85-90%400-700 nm波段
方块电阻10-100 Ω/□取决于厚度
电阻率1-5×10⁻⁴ Ω·cm
薄膜厚度100-300 nm典型应用
功函数4.5-5.1 eV取决于表面处理

9.3 ITO的制备方法

磁控溅射
最常用方法
ITO靶材溅射
工业化生产
电子束蒸发
高纯薄膜
实验室常用
溶胶-凝胶法
低成本
大面积涂覆
柔性基底
化学气相沉积
CVD/MOCVD
高质量薄膜

9.4 ITO的主要应用

📺 平板显示器

LCD、OLED显示器的透明电极,用于施加电场控制液晶或发光层。全球每年生产数十亿片显示面板,是ITO最大的消费领域。

📱 触摸屏

电容式和电阻式触摸屏的透明导电层。智能手机、平板电脑、ATM机等设备广泛使用ITO触摸屏。

☀️ 太阳能电池

薄膜太阳能电池(CIGS、a-Si、有机太阳能电池)的透明前电极。ITO允许阳光透过同时收集电流。

🔥 电热玻璃

飞机、汽车挡风玻璃除雾除冰。ITO涂层通电发热,保持玻璃透明。

🏠 节能窗

Low-E玻璃的红外反射层,阻隔热辐射,降低空调能耗。

🛡️ EMI屏蔽

电磁干扰屏蔽涂层,用于显示器和电子设备的透明屏蔽窗口。

9.5 ITO替代材料研究

由于铟资源稀缺且价格波动大,ITO替代材料的研究非常活跃:

材料优点缺点发展状态
AZO (铝掺杂氧化锌)低成本,资源丰富稳定性较差部分商业化
FTO (氟掺杂氧化锡)低成本,耐高温导电性较低已商业化(太阳能)
银纳米线高导电性,柔性雾度较高,银迁移研发中
碳纳米管柔性,可拉伸均匀性问题研发中
石墨烯极高透明度,柔性大面积制备困难研发中
PEDOT:PSS溶液加工,柔性稳定性问题小规模应用

十、半导体应用

III-V族半导体的关键元素 铟是III-V族化合物半导体的核心元素之一,铟基半导体(InP、InAs、InSb、InGaAs、InGaN等)在高速电子器件、光纤通信、红外探测、LED照明等领域具有不可替代的作用。铟原子可以与第V族元素(N、P、As、Sb)形成共价键半导体,通过调节组分可以实现禁带宽度的连续调节。

10.1 磷化铟 (InP)

📡 高速通信的基石

禁带宽度1.35 eV (直接带隙)
电子迁移率5400 cm²/(V·s)
晶格常数5.869 Å
热导率68 W/(m·K)

主要应用:

• 光纤通信激光器(1.3μm, 1.55μm波段)

• 高速光电探测器

• 高速HBT和HEMT晶体管

• 毫米波集成电路

• 太阳能电池衬底

10.2 砷化铟 (InAs)

禁带宽度0.36 eV (直接带隙)
电子迁移率40000 cm²/(V·s)
应用红外探测器、霍尔传感器、量子点

10.3 锑化铟 (InSb)

禁带宽度0.17 eV (直接带隙)
电子迁移率78000 cm²/(V·s) (最高)
应用中远红外探测器、热成像、霍尔器件

10.4 铟镓砷 (InGaAs)

InxGa1-xAs

通过调节In/Ga比例可调节禁带宽度(0.36-1.42 eV)。In₀.₅₃Ga₀.₄₇As与InP晶格匹配,是光纤通信探测器的核心材料。

禁带宽度范围0.36-1.42 eV (可调)
应用波段近红外(0.9-1.7 μm)
主要应用光纤通信PIN/APD探测器、SWIR成像

10.5 铟镓氮 (InGaN)

💡 LED照明革命

InGaN是蓝光和绿光LED的核心材料。通过调节In含量,可以从紫外到绿光连续调节发射波长。蓝光LED的发明(2014年诺贝尔物理学奖)使高效白光LED照明成为可能,彻底改变了照明产业。

禁带宽度范围0.7-3.4 eV (可调)
发射波长365-530 nm (UV-绿光)
主要应用蓝/绿光LED、激光二极管、显示器

10.6 CIGS太阳能电池

Cu(In,Ga)Se₂ (CIGS)

CIGS是高效薄膜太阳能电池的吸收层材料,实验室效率已超过23%。铟是CIGS的关键元素之一。

禁带宽度1.0-1.7 eV (可调)
吸收系数~10⁵ cm⁻¹ (极高)
最高效率>23% (实验室)
优点薄膜、柔性、低成本潜力

十一、其他工业应用

应用领域概述 铟的主要应用包括:ITO透明导电膜(~70%)、焊料和合金(~12%)、III-V族半导体(~12%)、其他应用(~6%)。除了已详述的ITO和半导体应用,铟在焊料、低熔点合金、轴承涂层、核反应堆等领域也有重要应用。

11.1 焊料

🔧 铟基无铅焊料

In-Sn、In-Ag等合金用于低温焊接,特别适合热敏感元件。铟焊料具有优良的润湿性和低温性能。

❄️ 低温焊接

铟焊料熔点低,可在150°C以下焊接,适用于玻璃、陶瓷和热敏感材料的连接。

🔬 真空密封

利用铟润湿玻璃的特性,铟垫片可在玻璃与金属间形成气密密封,用于真空设备和低温恒温器。

11.2 低熔点合金

合金名称成分(质量%)熔点用途
Field's金属In 51, Bi 32.5, Sn 16.562°C无毒低熔点合金
Ga-In共晶Ga 75.5, In 24.515.7°C液态金属(室温)
Ga-In-SnGa 68.5, In 21.5, Sn 10-19°C液态金属导热材料
In-Sn共晶In 52, Sn 48118°C低温焊料
In-Bi共晶In 33, Bi 67109°C低熔点焊料

11.3 轴承和涂层

应用说明
轴承合金涂层铟涂层改善轴承的润滑性能和耐磨性
航空发动机轴承银-铟合金轴承衬里,提高抗疲劳性
反射镜涂层铟涂层用于某些光学反射镜
金属电镀铟电镀层具有优良的耐腐蚀性

11.4 核工业

应用说明
控制棒Ag-In-Cd合金用于压水堆控制棒,吸收中子
中子吸收¹¹⁵In中子俘获截面较大(202靶恩)

11.5 消费结构

~70%
ITO透明导电膜
(显示器/触摸屏)
~12%
焊料和合金
(低温焊接/密封)
~12%
半导体化合物
(LED/光通信)
~6%
其他应用
(电池/涂层/核工业)

十二、市场与价格

12.1 价格概况

金属铟(99.99%, 4N级)

$200-400 /kg

价格波动较大,受供需影响

高纯铟(99.9999%, 6N级)

$600-1000 /kg

用于半导体和电子

ITO靶材(90/10)

$500-800 /kg

显示器产业主要消费

12.2 市场规模

指标数值
全球年产量~800-900吨
市场规模~3-5亿美元/年
年增长率3-5%
回收比例~30-40%(逐年提高)

12.3 价格影响因素

因素影响
显示器产业需求LCD/OLED产量是主要驱动因素
锌矿产量铟为副产品,锌价影响供应
中国出口政策中国主导全球供应,政策影响大
替代材料进展AZO等替代材料研发影响需求预期
回收率ITO废料回收缓解供应压力

12.4 主要生产商

株冶集团
中国湖南
锌冶炼副产品
全球最大生产商
Korea Zinc
韩国
锌冶炼副产品
高纯铟
同和矿业
日本
回收与精炼
高纯铟
Umicore
比利时
回收与精炼
Teck Resources
加拿大
锌矿副产品
ℹ️ 战略资源地位

铟被美国、欧盟、日本、中国等列为关键矿产(Critical Mineral)或战略性矿产资源。主要原因包括:(1)资源稀缺,全球储量有限;(2)供应高度集中于中国;(3)在显示技术和清洁能源领域的不可替代性;(4)作为副产品的供应弹性低。各国正加大铟回收和替代材料研发投入。

十三、安全与健康

13.1 毒性

✅ 低毒金属

铟金属和大多数铟化合物的毒性较低,远低于铅、汞、镉、砷等重金属。金属铟几乎无毒,铟化合物的口服毒性也较低。然而,铟和铟化合物的吸入毒性需要关注,特别是在工业环境中长期暴露。

化合物毒性LD₅₀(大鼠,口服)
金属铟几乎无毒>5000 mg/kg
In₂O₃低毒>5000 mg/kg
InCl₃中等(刺激性)~2500 mg/kg
In(NO₃)₃中等(刺激性)~1500 mg/kg
有机铟化合物较高注意防护

13.2 职业接触限值

标准物质限值
ACGIH TLV铟及化合物0.1 mg/m³ (TWA)
NIOSH REL铟及化合物无确定限值
中国GBZ铟及化合物0.1 mg/m³ (PC-TWA)

13.3 健康影响

⚠️ 铟肺病(Indium Lung)

长期吸入含铟粉尘(特别是ITO粉尘)可能导致间质性肺病,称为"铟肺病"。这是一种严重的职业病,在ITO靶材生产和溅射工艺工人中有报告案例。症状包括呼吸困难、咳嗽、肺功能下降,严重者可致肺纤维化。日本、韩国等国已将铟肺病列为职业病。

接触途径急性影响慢性影响
吸入呼吸道刺激铟肺病(间质性肺病)
皮肤一般无刺激
眼睛粉尘可能引起刺激
摄入大量可能胃肠不适

13.4 防护措施

防护类型建议措施
呼吸防护处理粉尘时佩戴N95或更高级别防尘口罩
眼部防护佩戴安全眼镜或护目镜
皮肤防护戴手套,穿工作服
通风保持良好通风,使用局部排气
卫生习惯工作后洗手,禁止在工作区进食

13.5 急救措施

情况措施
粉尘吸入移至新鲜空气处,如有症状就医
皮肤接触用大量水冲洗
眼睛接触用流动清水冲洗15分钟,就医
误食漱口,饮水,就医

13.6 环境影响

铟在环境中的丰度极低,不被认为是环境污染物。铟的生物积累性较低。ITO生产和回收过程中需注意废气废水处理,防止铟进入环境。铟作为稀有资源,回收再利用是环保和资源保护的重要措施。

十四、化学方程式汇总

14.1 与氧气的反应

4In + 3O₂ →(燃烧) 2In₂O₃
2In + 3/2O₂ →(缓慢氧化) In₂O₃

14.2 与卤素的反应

2In + 3F₂ → 2InF₃
2In + 3Cl₂ → 2InCl₃
2In + 3Br₂ → 2InBr₃
2In + 3I₂ →(加热) 2InI₃
3InCl → InCl₃ + 2In (歧化)

14.3 与酸的反应

2In + 6HCl(稀) → 2InCl₃ + 3H₂↑
2In + 3H₂SO₄(稀) → In₂(SO₄)₃ + 3H₂↑
2In + 6H₂SO₄(浓热) → In₂(SO₄)₃ + 3SO₂↑ + 6H₂O
In + 4HNO₃(稀) → In(NO₃)₃ + NO↑ + 2H₂O
In + 6HNO₃(浓) → In(NO₃)₃ + 3NO₂↑ + 3H₂O

14.4 与非金属的反应

2In + 3S →(加热) In₂S₃
2In + 3Se →(高温) In₂Se₃
2In + 3Te →(高温) In₂Te₃
In + P →(高温) InP
In + As →(高温) InAs
In + Sb →(高温) InSb
2In + N₂ →(高温/等离子) 2InN

14.5 氧化物反应

In₂O₃ + 6HCl → 2InCl₃ + 3H₂O
In₂O₃ + 6HNO₃ → 2In(NO₃)₃ + 3H₂O
In₂O₃ + 3H₂ →(>500°C) 2In + 3H₂O
In₂O₃ + 3C →(高温) 2In + 3CO↑
In₂O₃ + 3CO →(高温) 2In + 3CO₂
3In₂O →(加热) In₂O₃ + 4In (歧化)

14.6 氢氧化物反应

In³⁺ + 3OH⁻ → In(OH)₃↓ (白色)
In(OH)₃ + 3HCl → InCl₃ + 3H₂O
In(OH)₃ + NaOH(浓) → Na[In(OH)₄] (需浓碱)
2In(OH)₃ →(煅烧, 200°C) In₂O₃ + 3H₂O

14.7 卤化物水解

InCl₃ + 3H₂O → In(OH)₃↓ + 3HCl (完全水解)
InCl₃ + 3NaOH → In(OH)₃↓ + 3NaCl

14.8 沉淀反应

In³⁺ + 3OH⁻ → In(OH)₃↓ (白色)
2In³⁺ + 3S²⁻ → In₂S₃↓ (黄色)
In³⁺ + PO₄³⁻ → InPO₄↓ (白色)
In³⁺ + 3F⁻ → InF₃↓ (白色,微溶)

14.9 冶金反应

In³⁺ + 3/2Zn → In↓ + 3/2Zn²⁺ (置换)
In₂(SO₄)₃ + 3Al → 2In↓ + Al₂(SO₄)₃
2In(NO₃)₃ →(煅烧, >500°C) In₂O₃ + 6NO₂↑ + 3/2O₂↑
In₂O₃ + SnO₂ →(烧结, 1400-1600°C) ITO

14.10 半导体制备(MOCVD)

In(CH₃)₃ + PH₃ →(MOCVD) InP + 3CH₄↑
In(CH₃)₃ + AsH₃ →(MOCVD) InAs + 3CH₄↑
In(CH₃)₃ + NH₃ →(MOCVD) InN + 3CH₄↑
xIn(CH₃)₃ + (1-x)Ga(CH₃)₃ + AsH₃ → InₓGa₁₋ₓAs + 3CH₄↑

14.11 电解反应

阳极: In - 3e⁻ → In³⁺
阴极: In³⁺ + 3e⁻ → In

英汉对照词汇

indium
indium tin oxide (ITO) 氧化铟锡
indium oxide 氧化铟
indium chloride 氯化铟
indium phosphide 磷化铟
indium arsenide 砷化铟
indium antimonide 锑化铟
indium nitride 氮化铟
indium gallium arsenide 铟镓砷
indium gallium nitride 铟镓氮
transparent conductive oxide 透明导电氧化物
sputtering target 溅射靶材
magnetron sputtering 磁控溅射
thin film 薄膜
sheet resistance 方块电阻
transmittance 透过率
touch screen 触摸屏
liquid crystal display 液晶显示器
OLED 有机发光二极管
photovoltaic cell 光伏电池
CIGS solar cell CIGS太阳能电池
III-V semiconductor III-V族半导体
MOCVD 金属有机化学气相沉积
zone refining 区域熔炼
electrolytic refining 电解精炼
by-product 副产品
sphalerite 闪锌矿
critical mineral 关键矿产
low-melting alloy 低熔点合金
soldering 焊接
wetting 润湿
indium cry 铟哭声
indium lung 铟肺病
recycling 回收